青岛歌尔微电子研究院请求选择性溅镀相关专利完成待镀件非溅镀区域侧壁的选择性

时间: 2024-11-11 08:39:40 |   作者: 等离子表面处理

  

青岛歌尔微电子研究院请求选择性溅镀相关专利完成待镀件非溅镀区域侧壁的选择性溅镀

  金融界2024年9月28日音讯,国家知识产权局信息数据显现,青岛歌尔微电子研究院有限公司请求一项名为“选择性溅镀工装、选择性溅镀办法和电子科技类产品”的专利,公开号 CN 118703949 A,请求日期为2024年6月。

  专利摘要显现,本发明公开了一种选择性溅镀工装、选择性溅镀办法和电子科技类产品,触及半导体技术领域,其间,选择性溅镀工装包含工装主体和挡墙,工装主体的一标明发生有装置位,用于固定待镀件;挡墙凸设于工装主体朝向装置位的外表,并坐落装置位的一侧,用于遮盖待镀件非溅镀区域的侧壁;本发明供给的选择性溅镀工装能轻松完成遮盖待镀件非溅镀区域的侧壁,即完成待镀件非溅镀区域侧壁的选择性溅镀;而且,本发明的选择性溅镀工装结构设置较为简略,制造简略且本钱比较来说较低;一起,本发明的选择性溅镀工装可适用于全塑封的封装体、选择性塑封的封装体或阶梯塑封的封装体,合适运用的规模较广。